10月13日,光刻機概念股震蕩上揚。
截至收盤,新萊應材(300260.SZ)、旭光電子(600353.SH)、凱美特氣(002549.SZ)漲停,江豐電子(300666.SZ)、國林科技(300786.SZ)、華特氣體(688268.SH)漲超10%,蘇大維格(300331.SZ)、*ST和科(002816.SZ)等紛紛跟漲。
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全球大廠爆買光刻機
在半導體產業里,光刻機作為上游設備領域的代表性產品,對產業發展起著決定性作用,是推動芯片制程進步、引領行業發展的關鍵力量。
近期,半導體光刻機領域動作不斷,英特爾和三星等大廠提高了光刻機訂單量。其中,英特爾將ASML的High-NA EUV訂購數量從1套提高到2套,EUV的訂購數量從3套提高到5套;三星則將EUV的訂購數量從原本的5套提高到7套。
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業界指出,隨著芯片制程不斷向2納米以及2納米以下邁進,EUV正逐漸逼近物理極限,而High NA EUV是開啟半導體產業未來的核心技術。
據悉,高數值孔徑(High-NA)是衡量鏡頭聚焦光線能力的指標,數值越高,分辨率越高,則能夠繪制更精細的電路圖案,能大幅縮短制造時間,從而降低缺陷率并提高良率。價格方面,單臺High NA EUV光刻機售價約3.7億美元(約合人民幣26億元),也被稱為芯片市場上的“圣杯”。
今年9月,SK海力士宣布,已將業界首款量產型高數值孔徑極紫外光刻機(High NA EUV)引進韓國利川M16工廠。此次引進的設備為荷蘭ASML公司推出的TWINSCAN EXE:5200B,它是首款量產型High-NA EUV設備。
SK海力士計劃通過引進該設備,簡化現有的EUV工藝,并加快下一代半導體存儲器的研發進程,從而確保在產品性能和成本方面的競爭力。另有消息稱,SK海力士計劃在未來兩年內新購置約20臺EUV光刻系統,投資規模預計至少在6萬億韓元以上。
值得關注的是,在全球半導體產業格局深刻變革的背景下,我國光刻機國產化進程迎來重大突破。
公開資料顯示,目前國產光刻機在90nm及以下工藝節點方面取得了重要進展。例如,上海微電子自主研發的600系列光刻機已實現90nm工藝的量產,并正在進行28nm浸沒式光刻機的研發工作。
近日,深圳穩頂聚芯宣布,公司自主研發的首臺國產高精度Stepper(步進式)光刻機順利出廠,主要應用于mini/micro LED光電器件、光芯片、功率器件等化合物半導體領域,能夠滿足硅片、藍寶石、SiC(碳化硅)等襯底的不同膠厚光刻工藝需求。公開資料顯示,穩頂聚芯成立于2023年5月,位于深圳南山區。目前,公司具備年產20臺光刻機的產能,預計2025年實現營收1.4億元、凈利潤4480萬元。
9月29日,洪田股份間接控股子公司洪鐳光學宣布,其首臺HL-P20直寫光刻機已通過華南某FPC客戶驗收。該設備為面向PCB領域的雙臺面激光直寫機型,具備20μm光學解析力、±8μm對位精度,產能超8.5面/分鐘,滿足FPC與HDI線路曝光需求。經客戶工廠批量測試,各項指標達標,標志該產品正式獲得市場認可。
年內已誕生9只翻倍股
隨著光刻機技術的突破將帶動上游材料、精密機械等配套產業升級,加速光刻膠、光學部件等“卡脖子”材料的國產化進程,形成“龍頭帶動、多點突破”的產業升級格局。
同花順數據顯示,目前,A股光刻機概念一共有47家上市公司。從二級市場表現看,今年以來,截至10月10日收盤,42家上市公司股價出現上漲。
其中,聯合化學(301209.SZ)、凱美特氣(002549.SZ)、騰景科技(688195.SH)、旭光電子(600353.SH)、炬光科技(688167.SH)、芯碁微裝(688630.SH)、波長光電(301421.SZ)、茂萊光學(688502.SH)新萊應材(300260.SZ)9家公司股價成功實現翻倍。
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從今日走勢看,新萊應材觸及漲停板。公司主營業務之一為潔凈應用材料和高純及超高純應用材料的研發、生產與銷售,產品主要應用于食品安全、生物醫藥和泛半導體等業務領域。在泛半導體領域,公司的高純及超高純應用材料可以滿足潔凈氣體、特殊氣體和計量精度等特殊工藝的要求,同時也可以滿足泛半導體工藝過程中對真空度和潔凈度的要求。
據2025年8月27日機構調研,公司真空系統AdvanTorr、氣體系統NanoPure已應用于泛半導體產業鏈,并通過美國排名前二半導體設備廠商認證成為其一級供應商。公司堅持國產替代戰略,在半導體設備及廠務端零部件市場積極布局,預期該業務板塊將保持高速增長。
凱美特氣今日觸及漲停板,該股近一年漲停27次。公司主營高純二氧化碳、氫氣、燃料氣及電子特種氣體,在二氧化碳行業保持龍頭地位,并圍繞世界500強石化企業布局,持續擴大芯片半導體、航天、醫療等高端領域電子特氣產能。
公開資料顯示,特種氣體是隨著電子行業的興起而在工業氣體門類下逐步細分發展起來的新興產業,屬于高技術高附加值產品。按應用領域劃分,特種氣體主要包括電子特氣、醫療氣體、激光氣體、電光源氣體等。其中,電子特氣廣泛應用于清洗、光刻、刻蝕、摻雜、外延沉積等半導體工藝制程中,是我國追求半導體領域獨立自主的必經領域。
2017年,凱美特氣設立電子特種氣體分公司并投建電子特氣項目,目前公司光刻氣產品已獲得ASML子公司Cymer及GIGAPHOTON等光刻機廠商的合格供應商認證,準分子激光氣體產品已獲得Coherent(相干)認證。客戶方面,公司積極切入國內外高端客戶,已經與中芯國際、長江存儲等龍頭企業建立合作關系。公司還計劃依托全國多地建設生產基地,擴張產能,強化循環經濟模式,提升資源利用效率。未來,隨著電子特氣國產替代進程加快及氫能等新興領域需求上升,公司有望借助產能擴張打開增長新空間。
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