SK海力士，計劃赴美上市

在美國上市將使該公司能夠接觸到新的投資者群體，并可能幫助SK海力士縮小其在估值方面與全球競爭對手之間的差距。

據悉，韓國SK海力士公司正計劃通過赴美上市的方式，籌集10萬億至15萬億韓元（約合67至100億美元）的資金。

據業內消息人士透露，SK海力士計劃發行新股，以進行美國存托憑證（ADR）的上市交易。募來的資金用于建設人工智能基礎設施，比如在韓國龍仁市建設半導體集群，以及擴大存儲產品的產能。SK海力士的一位發言人就該報道回應稱，“旨在提升股東價值的各種措施，包括美國存托憑證，目前正處于審查階段，尚未有最終決定。”

若該上市計劃能夠成功落地，那么它將成為由外國公司進行的規模最大的赴美上市交易之一。據報道，SK海力士已向多家投資銀行發出了招標邀請，以選定其上市承銷商。值得一提的是，今年SK海力士注銷了約1530萬股庫存股，價值約12.2萬億韓元，以此提升股東價值。該公司潛在的美國上市規模可能約占已發行股份的2.4%，與注銷的庫存股數量大致相當。

12萬億韓元！SK海力士大手筆采購EUV設備

SK海力士發布有形資產收購公告，宣布將引進規模達11.9496萬億韓元的極紫外（EUV）設備。此次投資規模相當于SK海力士總資產的9.97%，設備預計收購時間從本月起至明年12月31日。SK海力士表示：“收購金額為EUV光刻機引進與運營所需的新設備、安裝、庫存等全部預計費用。收購對象將在總計兩年內分批購入，每臺設備單獨采購時將分期支付款項。”

EUV是用于在半導體晶圓上蝕刻電路的光刻工藝光源。與傳統半導體光刻光源 ArF（氟化氬）相比，其光波波長僅為后者的1/13（13.5 納米），更易于實現超微細化制程。目前EUV設備由荷蘭半導體設備企業ASML獨家生產，技術難度極高，設備價格也十分昂貴。據悉，最新一代設備單價約為3000億韓元。

以此價格推算，SK海力士到明年為止預計將引進至少30臺以上EUV設備。目前SK海力士正在建設清州M15X廠區，并從今年開始正式導入設備。龍仁半導體集群的首座廠區計劃在明年2月潔凈室完工后進駐設備。

EUV工藝的核心應用對象為1c DRAM。此前，SK海力士已在1a DRAM的1層結構中首次應用 EUV，之后在1b DRAM中將其擴大至4層，而1c DRAM將采用更多層EUV工藝。1c DRAM 不僅將用于 SK海力士下一代移動、服務器 DRAM，也將應用于人工智能數據中心核心部件 ——HBM。計劃從明年正式量產的HBM4E開始，首次采用1c DRAM。

2030年前建立自主晶圓廠

SK海力士擬在 2030 年前建立一家自主晶圓廠，旨在利用先進的人工智能和數字技術實現半導體生產的自動化和優化。該舉措旨在應對存儲芯片需求量的迅速增長，尤其是用于人工智能工作負載的高帶寬存儲需求。此舉還將提升其各制造設施內的潔凈室生產性能。

自主化工廠概念的核心在于將自動化技術深入延伸至工廠的潔凈室區域。SK海力士的發展規劃包括部署人工智能系統，以實現對潔凈室流程的監測、控制和調整，同時盡可能減少人工干預。該計劃包括提高極紫外光刻、蝕刻及其他納米級工序的精確度并降低缺陷率。潔凈室對于半導體制造至關重要，因為即便是微小的污染物也可能影響電路的完整性。

SK海力士表示，其自主晶圓廠愿景將圍繞三大技術支柱構建：

• 操作型人工智能：將作為核心決策中樞，賦能生產流程優化、缺陷精準檢測以及設備維護排程等關鍵環節。
• 物理人工智能：主要用于統籌潔凈室的地面活動調度、物料流轉運輸以及機器人協同作業。
• 數字孿生模型：通過構建與現實工廠完全對應的虛擬鏡像，實現生產場景的實時模擬、廠區布局驗證以及各類情景的推演規劃。

使用數字孿生的目的是為了減少實際潔凈室生產線上反復試錯的過程。這將使 SK海力士能夠在對生產現場實施改動前，對物料流動、設備交互以及環境因素進行模擬。

盡管韓國和美國正在擴大晶圓廠產能，但僅僅建造更多設施還不足以滿足人工智能領域日益飆升的內存需求。這項自主制造計劃旨在提升生產效率，并通過減少對人工操作的依賴和增強潔凈室自動化程度，縮短從設計到大規模生產的過渡過程。有關這座自主化工廠的特定地點尚未公布，但SK海力士目前在清州市和龍仁半導體集群地區的現有及規劃中的工廠很可能將作為新技術的基礎。

*聲明：本文系原作者創作。文章內容系其個人觀點，我方轉載僅為分享與討論，不代表我方贊成或認同，如有異議，請聯系后臺。