北京
近日，國家知識產權局辦公室印發關于2026年立法工作計劃的通知。
其中提到，擬修改完善的部門規章有《專利優先審查管理辦法》《集成電路布圖設計保護條例實施細則》；擬推進的其他立法項目有配合《中華人民共和國商標法》修改進程，加快推進《中華人民共和國商標法實施條例》修改研究論證，完善地理標志制度，推進研究起草《地理標志條例》，預備修改完善《專利代理管理辦法》，預備制定《集成電路布圖設計行政裁決辦法》等。
國家知識產權局辦公室關于印發2026年立法工作計劃的通知
局機關各部門，專利局審查業務管理部、復審無效部、初審流程部，商標局：
現將《國家知識產權局2026年立法工作計劃》印發給你們，請認真貫徹落實。
國家知識產權局辦公室
2026年2月4日
附：《國家知識產權局2026年立法工作計劃
來源：國家知識產權局網站
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