北京
來源：環球網
【環球網報道】據臺灣“中央社”3月26日報道，臺積電離職工程師陳力銘及在職工程師吳秉駿、戈一平涉泄露關鍵技術，被臺檢方起訴。臺灣“智慧財產及商業法院”今天（26日）辯論終結，將于4月27日宣判，追加起訴并辦案件也一起宣判。
臺積電標志 圖源：臺媒
據報道，臺灣“高檢署智慧財產檢察分署”起訴稱，陳力銘曾任臺灣積體電路制造股份有限公司12廠良率（又稱合格率）部門工程師，離職后進入一家日本半導體制造設備供應商行銷部門。
檢方表示，陳力銘于2023年下半年至2025年上半年，為了讓半導體制造設備供應商成為臺積電先進制程更多站點設備供應商，多次要求當時在職的臺積電工程師吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密，以便這家供應商改善蝕刻機臺表現，以爭取臺積電2納米制程蝕刻站點供應量產機臺資格。
臺積電發覺異常后經過內部調查，懷疑有在職與離職員工非法取得關鍵技術與營業秘密，去年7月8日提告。臺“高檢署智慧財產檢察分署”檢察官于同年7月25至28日指揮“調查局”發動搜查、約談，陳力銘、吳秉駿、戈一平后被羈押禁見。
臺“高檢署智慧財產檢察分署”在去年8月27日依意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪、核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪起訴3人，并求處陳力銘應執行有期徒刑14年、吳秉駿應執行9年徒刑、戈一平7年徒刑。
據臺媒此前報道，臺積電不止一次遭遇機密外泄問題。除發現2納米技術遭工程師外泄外，2025年11月，臺積電退休資深副總羅唯仁被指控在離職前“扛走20箱機密”，“回鍋”美國英特爾，引發島內科技圈嘩然。
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