重慶
據美國戰略與國際研究中心研究員格雷戈里·C·艾倫表示，中國科技公司已聘請ASML員工開發國產的光刻機設備，但整體進度仍然處于落后狀態。
隨后艾倫補充表示，在美國禁令生效之前，中國企業與ASML緊急簽訂了采購協議，囤積了ASML部分老款光刻機，以便繼續制造那些不太先進的芯片。
美國經濟歷史學家、外交政策研究院主任克里斯·米勒在個人作品《Chip War》中指出，先進的光刻機設備是人類迄今為止創造過的最復雜的工業機器，其供應鏈企業遍布全球，包括了歐洲、美國、亞洲在內的5100家企業。
涉及學科復雜，包括材料學、物理學、化學、機械制造、設計光學等各類科學技術。
ASML的成功依托于全球資源體系的支持，并且服務于全球范圍內的客戶群體。
美國的對華限制讓ASML中國區業務出現不穩定因素，先封鎖了中國企業在2018年采購的EUV光刻機，隨后又接連封鎖了浸潤式光刻機的出口，這極大刺激了中國本土設備企業，讓中國自主技術設備迎來了大規模的集中發展。
ASML前CEO與現任CEO紛紛在接受采訪時指出，已經知曉中國企業在開發先進的國產光刻機設備這件事，這完全合情合理。
中國是一個14億人口的大國，作為一個世界上最大的經濟體，中國企業絕對不會接受在關鍵技術上面被別人卡脖子的困境，美國試圖阻止中國發展科技，那么中國就會更加努力地取得成功。
在先進芯片和EUV光刻機受到封鎖之后，中國企業積極采取備選技術方案，通過可采購到的ASML浸潤式光刻機以及自對準多重圖案化技術制造國產7nm芯片。
該技術需要光刻機一次曝光，然后經過兩次沉積-刻蝕工藝的交替實現晶體管半間距的縮短，以此來達到等效7nm工藝的特性。
這種技術雖然可以制造7nm芯片，但是其能效、性能、良品率、成本均無法與先進的EUV技術相比。
在積極解決先進芯片卡脖子的困境時，中國企業還在持續推進國產化設備的技術進度。
2024年我國工信部公布了兩臺光刻機設備，一臺KrF一臺ArF。最先進的ArF設備已經具備了65nm分辨率，可以實現65nm—40nm的芯片制造。
雖然只是兩臺干式光刻機設備，但對于我國之前90nm的設備來說技術進步明顯。
ASML中國區總裁沈波此前在中國進博會上對媒體表示，從1988年ASML將第一臺設備運送到中國至今，中國大陸地區包括光刻機以及測量臺在內的設備數量達到了1400臺左右。
這些ASML的設備，一部分被拿去生產等效工藝為7nm的先進芯片，另一部分被用于制造28nm、14nm工藝的成熟芯片，這些成熟工藝的芯片被廣泛應用于汽車、工業控制、物聯網、消費電子等領域，占全球總市場需求的60%以上。
大規模囤貨確保了在未來可能完全斷供的情況下，中國龐大的制造業基礎不至于因缺少設備而停擺，為經濟安全構筑了關鍵防線。
據ASML財報顯示，2023年至2025年，中國市場為其貢獻的總銷售占比極高，某些季度一度達到了40%以上的規模占比。
依靠ASML設備形成的制造產業鏈，是整個全球芯片制造業的技術標準，同時也是中國國產光刻膠、鏡頭、工作臺等設備材料相對比的模板。
研發團隊可以將國產部件接入現有產線進行測試，對比其與進口原件的性能差距，從而獲得最直接的反饋數據進行迭代優化。
ASML的設備能達到現在這么穩定的水平，也是經過了長時間的技術調試與大量的數據信息當做參考。依照ASML的標準進行國產技術的優化，這要比閉門造車效率高得多。
如今來自于美國的外部壓力，已經迫使中國半導體產業從單點突破轉向系統發展。
在刻蝕、沉積、清洗、檢測等多個設備領域，北方華創、中微公司等本土廠商已加速進入主流產線，芯上微裝等本土光刻機企業也正在有條不紊的推動技術進步。
中國企業依靠內需市場以及前幾年所囤積的進口設備，正在成熟制程領域形成規模優勢和成本優勢。
這不僅能滿足內需，還可能以更具競爭力的價格參與全球市場，從而在半導體產業的基本盤中占據主導地位，削弱傳統巨頭的利潤基礎，為向高端進軍積累資本和市場話語
特別聲明：以上內容(如有圖片或視頻亦包括在內)為自媒體平臺“網易號”用戶上傳并發布，本平臺僅提供信息存儲服務。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
