微軟投資“光刻機”初創公司

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總部位于挪威、由微軟支持的芯片制造設備初創公司Lace周一表示，該公司已籌集4000萬美元資金，用于進一步開發一項可能在半導體設計和制造方面取得重大進展的技術。

為了制造尖端芯片，臺積電和英特爾等制造商采用了一種稱為光刻的工藝，利用光來繪制復雜的電路，這些電路構成了先進人工智能芯片的基礎。

制造商們競相縮小芯片組件的尺寸，并在有限的硅片面積上塞入更多功能，以提高計算能力，因此他們使用荷蘭公司 ASML（占據市場主導地位）生產的基于光刻技術的系統。

隨著新一輪創業公司的涌現，該領域引起了投資者和政府的重新關注，其中一些創業公司的目標是與這家荷蘭公司競爭。

Lace公司開發了一種新方法。該公司工程師沒有使用光刻技術，而是利用氦原子束進行光刻。Lace首席執行官博迪爾·霍爾斯特在接受路透社采訪時表示，憑借這項技術，這家挪威公司將能夠制造出比目前技術小10倍的芯片。

霍爾斯特說：“我們的技術有可能擴展發展路線圖，并成為實現原本不可能的事情的推動力。”

氦原子束的主要優勢在于，它可以制造出晶體管等現代芯片的基本組成部分，其尺寸可以縮小一個數量級，達到“幾乎難以想象”的程度。Imec（芯片行業的研發創新中心）的光刻技術科學總監約翰·彼得森表示。

Lace公司用于制造芯片的光束寬度大約相當于一個氫原子，即0.1納米。ASML公司的光刻工具使用的光束寬度約為13.5納米；一根頭發的寬度約為10萬納米。

更小的晶體管和其他特性將使芯片制造商能夠大幅提升先進人工智能處理器的性能，遠超目前的水平。霍爾斯特表示，Lace 的技術將使芯片制造商能夠以“最終的原子級分辨率”印刷晶圓。

這家總部位于卑爾根的公司完成了 A 輪融資，由 Atomico 領投，微軟的風險投資部門 M12、Linse Capital、西班牙技術轉型協會和 Nysn? 也參與了投資。

Lace公司拒絕就其整體估值置評，該公司已開發出原型系統，并計劃在2029年左右在試點芯片制造廠（或稱晶圓廠）中配備測試工具。該公司在2月份的科學光刻峰會上受邀發表了一篇研究論文，介紹了其研究成果。

Lace利用原子層超越了極紫外光刻技術

Lace Lithography AS（挪威卑爾根）正在開發一種光刻技術，該技術利用在表面燃燒的原子來定義特征，其分辨率超過了使用極紫外光刻技術所能達到的分辨率。

Lace Litho 所稱的 BEUV 技術，理論上可以實現更精細的特征，從而支持晶體管的持續小型化并延長摩爾定律。

該公司由卑爾根大學首席執行官博迪爾·霍爾斯特教授和首席技術官阿德里亞·薩爾瓦多·帕勞于 2023 年 7 月共同創立。阿德里亞·薩爾瓦多·帕勞在卑爾根大學獲得博士學位，但現在在西班牙巴塞羅那運營。

傳統的極紫外光刻系統使用波長為13.5納米的光，通過一系列反射鏡和掩模在晶圓上形成圖案。原子光刻技術無需掩模即可直接進行圖案化，其分辨率比波長受限的極紫外光刻系統所能達到的分辨率還要高。

該公司在其網站上宣稱：“通過使用原子而不是光，我們以更具成本效益的方式，并以顯著更低的能耗，為芯片制造商提供比現有技術領先 15 年的能力。”

薩爾瓦多·帕勞和霍爾斯特教授共同撰寫了一篇發表在《物理評論A》上的論文，題為《利用中性氦原子進行真實尺寸表面映射》。該論文詳細介紹了立體氦顯微鏡的實現和操作。

FabouLACE 是一個由歐盟資助的項目，旨在開發基于色散力掩模的氦原子光刻技術，項目預算為 250 萬歐元，由歐洲創新理事會提供。該項目于 2023 年 12 月 1 日啟動，至 2026 年 11 月 30 日結束。

FabouLACE利用亞穩態原子和基于色散力的掩模，可實現2納米的特征尺寸。據歐盟委員會稱，Lace Lithography的目標是在2031年前將該技術推向市場。與此同時，IMEC研究所將對該技術的性能進行監測和驗證。NanoLACE是此前一項歐盟研究項目，已于2024年12月31日結束。該項目于2019年啟動，預算為365萬歐元，最終獲得336萬歐元的資助。

Lace Lithography 于 2023 年 7 月籌集了約 45 萬歐元的種子輪融資，投資方包括 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、歐洲創新理事會、挪威創新署和挪威研究理事會。

（來源：路透社）

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