EUV光刻機，又一里程碑

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全球領先的先進半導體技術研發創新中心imec今日宣布，ASML EXE:5200高數值孔徑EUV光刻系統正式上市，這是目前最先進的光刻工具。這一戰略里程碑鞏固了imec作為業界邁向埃級時代的先鋒地位，使其全球合作伙伴生態系統能夠以前所未有的方式率先體驗下一代芯片微縮技術。高數值孔徑EUV系統與一套全面的圖形化和計量工具及材料直接集成，將助力imec及其生態系統合作伙伴釋放所需的性能，從而引領2納米以下邏輯和高密度存儲技術的研發，推動先進人工智能和高性能計算的快速發展。

imec首席執行官Luc Van den hove表示：“過去兩年是高數值孔徑（0.55NA）極紫外光刻技術發展的重要篇章。imec與ASML攜手合作，在位于荷蘭費爾德霍芬的聯合高數值孔徑極紫外光刻實驗室，與業界伙伴共同開拓高數值孔徑極紫外光刻技術。隨著EXE:5200高數值孔徑極紫外光刻系統安裝在我們位于比利時魯汶的300毫米潔凈室中，我們旨在將這些高數值孔徑極紫外光刻技術推廣到與行業相關的規模，并開發下一代高數值孔徑極紫外光刻應用案例。該系統擁有無與倫比的分辨率、更優異的套刻性能、高吞吐量，以及可提升工藝穩定性和吞吐量的新型晶圓堆垛機，這將為我們的合作伙伴在加速開發2納米以下芯片技術方面帶來決定性優勢。隨著行業邁入埃級時代，高數值孔徑極紫外光刻將成為一項基石技術，imec很榮幸能夠引領這一潮流，并為合作伙伴提供解決方案。”最早、最全面地獲取這項技術。”

這一里程碑是imec與ASML五年戰略合作伙伴關系的關鍵組成部分，該合作伙伴關系得到了歐盟（芯片聯合計劃和IPCEI）、弗拉芒政府和荷蘭政府的支持。Luc Van den hove表示：“作為歐盟資助的NanoIC試點生產線的重要組成部分，該工具將在未來幾十年里，在鞏固歐洲在先進半導體研發領域的領先地位方面發揮關鍵作用。”

imec潔凈室配備ASML EXE:5200高數值孔徑EUV光刻系統，鞏固了imec作為先進圖形化技術最全面開發環境的地位。imec與領先的芯片制造商、設備供應商、材料和光刻膠供應商、掩模公司以及計量專家建立了深入的生態系統合作關系，這將使我們能夠加快學習周期，提高工藝穩定性，從而開發和展示用于下一代邏輯和存儲器件技術的尖端圖形化技術，推動突破性進展，塑造未來幾年先進計算和人工智能的發展方向。

ASML首席執行官Christophe Fouquet表示：“IMEC安裝EXE:5200標志著我們邁入了埃級光刻時代的重要一步。我們將攜手加速高數值孔徑EUV光刻技術的擴展，以服務于下一代先進的內存和計算設備。”

imec 預計 EXE:5200 高數值孔徑 EUV 光刻系統將于 2026 年第四季度完成全面認證。與此同時，位于費爾德霍芬的 ASML-imec 聯合高數值孔徑 EUV 光刻實驗室將繼續運營，確保 imec 及其生態系統合作伙伴的高數值孔徑 EUV 研發活動的連續性。

（來源：編譯自imec）

*免責聲明：本文由作者原創。文章內容系作者個人觀點，半導體行業觀察轉載僅為了傳達一種不同的觀點，不代表半導體行業觀察對該觀點贊同或支持，如果有任何異議，歡迎聯系半導體行業觀察。

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