快科技3月31日消息,據報道,蘋果20周年紀念版iPhone 20將采用1.1毫米極窄屏幕邊框,搭配極致圓潤的邊緣處理與四曲面瀑布屏設計,整機視覺效果接近無縫玻璃面板。
此次曝光的設計核心為真全面屏形態,為配合1.1毫米窄邊框,iPhone 20采用四邊均向中框自然彎曲的四曲面屏幕,進一步弱化邊框存在感,提升正面屏占比與一體感。
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圓潤邊緣與四曲面造型相契合,可減少視覺斷層,讓機身握持手感更順滑,同時強化整機的精致感與辨識度。
要實現該外觀,蘋果需將前置攝像頭與面容識別組件置于屏幕下方,這也是真全面屏方案的關鍵技術難點。
據悉,當前研發團隊仍面臨光線穿透率不足、屏下傳感器識別精度未達標的問題,影響屏下攝像頭成像與Face ID解鎖穩定性。
有媒體指出,iPhone 20距離量產仍有約18個月時間,蘋果有充足周期優化屏下透光、算法校準等環節,逐步解決現有技術瓶頸。
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