從給圖紙也造不出，到現(xiàn)在不能讓中國研發(fā)光刻機，歐美開始焦慮了

前沿導讀

2001年，中科院院士、北京大學微電子研究院院長王陽元開展了一場關于“微電子科學技術和集成電路產(chǎn)業(yè)”的報告，該報告重點分析我國發(fā)展微電子和集成電路產(chǎn)業(yè)的必要性、緊迫性、措施和建議。

隨后，制造芯片的光刻機設備成為了十五期間首要進行攻關的項目。次年，光刻機項目被列入國家863計劃中，上海微電子裝備集團也因此正式成立。

上微公司的總經(jīng)理賀榮明先生，主動帶隊去歐美地區(qū)展開合作。但是當賀榮明先生對國外企業(yè)表示中國人也要做光刻機的時候，外國專家滿眼不屑的對賀榮明先生說到：“就是給你們?nèi)讏D紙，你們也做不出來。”

從當年給圖紙也造不出來，到現(xiàn)在ASML等歐洲企業(yè)主動要求美國政府放松出口管制，通過出口特定的設備來壓制中國自主設備的發(fā)展，這其中表現(xiàn)出來的是歐美企業(yè)對中國科技發(fā)展所產(chǎn)生的焦慮感。

降價售賣

上海微電子在封裝光刻機領域占據(jù)國內(nèi)80%的市場空間，在制造LED/MEMS/功率器件所用的光刻機中，上海微電子的國產(chǎn)光刻機已經(jīng)在性能指標上面達到了領先水平，其LED光刻機市場占有率第一。

盡管國產(chǎn)光刻機已經(jīng)從當年“給圖紙也造不出”，發(fā)展成如今在部分環(huán)節(jié)實現(xiàn)國產(chǎn)化替代，但是光刻機分為前道設備以及后道設備。前道設備主要用于芯片制造的曝光，而后道設備用于芯片的成品封裝步驟。

從技術水平和產(chǎn)業(yè)鏈上面來看，前道光刻機的重要性和技術難度遠大于后道光刻機。

上海微電子已經(jīng)完成了90nm前道光刻機的制造，但是荷蘭ASML、日本的尼康、佳能等企業(yè)均在前道光刻機領域摸爬滾打了幾十年，并且ASML已經(jīng)成為了全球前道光刻機的龍頭老大。

只是依靠制造銷售光刻機這個單一業(yè)務，ASML穩(wěn)坐全球晶圓設備制造商全球第一的位置，甚至其創(chuàng)造的經(jīng)濟利益要比一眾美國的大型裝備集團還要高。

由此可見，要實現(xiàn)國產(chǎn)先進芯片的自主可控，先進技術的前道光刻機是必須要面對的問題。

據(jù)《瞭望智庫》此前發(fā)布的報道指出，每當中國企業(yè)宣布在光刻機領域有所進展的情況下，荷蘭ASML就立即降價甩賣同代和上代的光刻機產(chǎn)品，提前一步搶占中國市場，擠壓中國本土設備的市場空間。

參考資料：
「鏈接」

• https://mp.weixin.qq.com/s?__biz=Mzk5MDY0OTgwMg==&mid=2247682333&idx=1&sn=d723ee0f1a85b72e09cb5316c3d1f895&source=41&poc_token=HJjfsGmjxFXuYtIUf8D7nY0alb-Kh-TR12efmXmd

盡管我國在2024年公布65nm分辨率光刻機依然還是干式ArF設備，與ASML最先進的EUV光刻機技術差距較大，但是從當年分辨率90nm的設備發(fā)展到如今分辨率65nm的設備，我們只用了6年時間。

這也就是說，在這6年的時間里，我們一直在提升國產(chǎn)光刻機的技術水平。甚至我們已經(jīng)公布的干式光刻機，在性能指標上已經(jīng)超過了沒有ArF光刻機的日本佳能。由于佳能主攻納米壓印技術，導致其干式光刻機的技術進步幾乎停滯，這也讓中國企業(yè)有了追趕的空間。

難買又難造

美國對中國實施出口管制的時間，最早可以追溯到“巴黎統(tǒng)籌委員會”以及后來的“瓦森納協(xié)定”。

瓦森納協(xié)定的限制措施按照N-2的原則執(zhí)行，只允許比最先進技術落后兩代的產(chǎn)品設備出口給中國，不允許出口最先進的技術。

而設備出口到實際使用，中間還需要經(jīng)過一段時間的審批以及技術調(diào)試。如果將這段時間算在內(nèi)，那么中國企業(yè)使用外國設備的時候，相當于比外國最先進的技術落后三代。

盡管制造7nm芯片并不完全依賴于EUV光刻機這一條路線，但是EUV光刻機的加入，可以極大提升其制造效率和芯片良品率，具備更良好的經(jīng)濟性條件。

此前有一種說法是如果海外的設備全部停止工作，那么中國并不是完全沒有芯片能用，國產(chǎn)光刻機也可以批量制造成熟芯片來保證基礎設施正常運行，只不過在先進芯片領域就要落后許多了。

成熟芯片保證整個國家的正常運行，而先進芯片則是開啟新時代科技的技術競爭。一旦無法進入到先進技術的賽道上面，國外企業(yè)將會掌握先進技術的先發(fā)優(yōu)勢，申請技術專利并以此來封鎖我們發(fā)展先進技術的機會。

而國產(chǎn)先進的制造設備，就是我們踏入先進技術賽道的“敲門磚”。

前中興通訊副總經(jīng)理、復旦大學中國研究院特邀評論員汪濤在采訪中指出，對于先進的EUV光刻機這種技術產(chǎn)品，它的技術難度高、投入資源大、市場空間有限，ASML每年的EUV出貨量也只是在五六十臺左右。對于這種設備規(guī)模較小的產(chǎn)業(yè)，我們本身是不太想涉足的，我們更傾向于發(fā)展那些規(guī)模大、市場需求量多的產(chǎn)品。

但是美國的制裁讓我們無法購買到先進設備，我們只能被動走上自主開發(fā)的技術路線。一旦我們有決心發(fā)展某些領域，那么這個領域當中的其他國外企業(yè)都要做好與中國企業(yè)競爭的緊迫感。