ASML再下重拳，1000臺光刻機秒變“廢鐵”，不料中國留有后手

荷蘭頒布光刻機新規(guī)一發(fā)，全球行業(yè)震蕩。

據(jù)路透社報道，在這場管制升級中，不僅DUV設備出口限制從7nm下調(diào)至14nm，管制范圍也進一步擴大，屬于敏感領域的計算光刻軟件等配套技術也遭“一刀切”。新規(guī)頒布，ASML應聲下跌8.2%。

荷蘭嘴上反復打著“經(jīng)濟安全風險”的旗號，但稍有判斷的人都明白，這無非是在配合美合演一出雙簧戲。

自2019年起，美為阻礙獲得高端，要求荷蘭拒絕出口用于生產(chǎn)7nm以下的先進光刻機，試圖打壓產(chǎn)業(yè)。

在多輪收緊之后，荷蘭干脆與美步調(diào)一致，將部分深紫光刻機納入出口許可清單。所幸國內(nèi)廠商早有防備，僅在2023年11月便從荷方鎖定約42臺光刻機，金額超過81億美元，這批“先手”設備至今托住了企業(yè)的正常運轉。

可惜轉折來得很快。2024年初，荷蘭再次收緊，將部分DUV機型納入管制，甚至撤銷已批出口許可，使高端研發(fā)受阻，既有設備的維護和備件供應也面臨中斷風險，一旦出現(xiàn)故障，整條產(chǎn)線都可能停擺，昂貴設備形同廢鐵。

這些舉措只是美方處處設障的一個切片。更進一步，這套操作早已外溢到AI、通信、生物科技等關鍵領域：在AI上，限制采購技術方案、打壓在美學者；在通信上，封5G設備銷售，并施壓盟友聯(lián)手圍。

然而，隨著在關鍵領域接連攻關，美方的算計已難再奏效。實現(xiàn)28nm DUV光刻量產(chǎn)驗證，攻下13.5nm極紫外光源這一EUV光刻“心臟”技術，刻蝕等高難度設備的本土化率亦提升至四成以上。

即便在其他薄弱領域，也正迅速趕超。通過算法優(yōu)化、構建開源生態(tài)等，DeepSeek等超越美同類開源模型；市場表現(xiàn)也印證國產(chǎn)技術實力。當前HUAWEI等中企占41%全球電信設備市場。

這些成績并非憑空而來。為光刻機這一“卡脖子”難題，密集推出措施，累計研發(fā)投入逾3.6萬億，直指全鏈條自主可控。在此帶動下，ASML前光源技術負責人林楠、日本學者王興向朝等相繼歸國，推動EUV光源等關鍵技術再上臺階。

光刻機的崛起正改變?nèi)蚋窬帧SML高管正從“造不出光刻機”軟化為“期待與合作”。市場數(shù)據(jù)顯示，市場上ASML訂單量在2025年前5個月同比下降60%。

專家指出，面對美荷聯(lián)手施壓，并非毫無還手之力。眾所周知，稀土幾乎就是光刻機的“命門”。在收緊稀土相關技術出口管制后，ASML光刻機交付已出現(xiàn)數(shù)周延遲，該公司也承認，這種局面等同于被人掐住了脖子。

實踐證明，通過技術封鎖來阻礙他國發(fā)展，不但不會得逞，反而會加速突破步伐。正如ASML的CEO傅恪禮所言，“你試圖阻止的人會更加努力取得成功，無論多少障礙都沒用。”

當下，在AI、生物技術等前沿領域正加速逼近西方，差距持續(xù)收窄，高端人才回流也在為科研不斷“添油加速”，整體突圍步伐明顯加快。反觀美，ASML產(chǎn)能閑置、工廠調(diào)班近乎半停擺，OpenAI等巨頭與中方技術差距被迅速拉近，創(chuàng)新藥研發(fā)則愈發(fā)依賴……

光刻機事件猶如一面鏡子，殘酷而清晰地表明，在核心科技領域，過度依賴他人最終只會作繭自縛。而我國選擇的，正是一條雖艱難，但更為安全的自主創(chuàng)新之路