差距再次拉大！荷蘭ASML抓住機會，日企終究失算了

想當年，日本企業尼康和佳能曾經是光刻機巨頭，當時ASML還在摸爬滾打，但后來在一個關鍵節點，ASML抓住了機會，而尼康和佳能錯過，最終被ASML給超越。

盡管尼康和佳能并沒有放棄光刻機業務，但多年來也沒能再趕上來，并且近幾年本來有了一個可以趁機搶市場的絕佳機會，但他們沒有順勢抓住，結果差距越拉越大了！

上世紀80年代左右，日本尼康和佳能超過了美方的光刻機企業，成為全球領先的光刻機巨頭，當時號稱日本“光刻機雙雄”，他們崛起之后，美光刻機企業就迅速沒落。

但尼康和佳能也沒有料到，后來竟然會被一個不走眼的荷蘭光刻機企業ASML給超越。

轉折點就出現在干式和濕式光刻技術較量上，當臺積電專家林本堅研發出濕式光刻技術時，尼康和佳能因為已經投了巨資研發，堅持干式光刻技術，拒絕采用錯過機會。

這讓荷蘭ASML抓住了機會，也是因為ASML正在追趕，敢于嘗試新技術，于是就采用了林本堅的濕式光刻技術，推出了全球第一臺以水為介質的浸潤式DUV光刻機。

然后，臺積電也積極配合，采用浸潤式DUV光刻機后發現效果更好，受到市場歡迎。

ASML憑借浸潤式DUV，拿下了較多市場份額，一舉超過了日本尼康和佳能，成為新的光刻機巨頭，后來又推出了更先進的EUV光刻機，坐穩了全球光刻機霸主地位。

后來，尼康和佳能跟ASML拉開的差距越來越大。佳能基本放棄了佳能技術追趕，主要從事中低端光刻機業務，還研發新的光刻技術進行追趕，即NIL納米壓印光刻。

而尼康則繼續研發傳統光刻機技術，后來終于突破了浸潤式光刻技術，也推出了浸潤式DUV光刻機，但每年僅出貨幾臺，因為ASML先行一步，已經占據了多數市場。

不過，尼康已經擁有了跟ASML競爭浸潤式DUV市場的實力，只待一個翻盤的機會。

后來，機會真的來了，并且尼康也開始努力，還跟大陸晶圓廠達成合作，開始供應浸潤式DUV光刻機，之前主要跟英特爾合作，但出貨量太少，所以要開發大陸市場。

但沒多久，這個機會直接被日本政府給掐滅了。因為2022年10月份，美方出臺史上最嚴出口管制政策，然后就擴大光刻機限制范圍，要把浸潤式DUV也納入限制。

于是，美方就向荷蘭和日本施壓，要求他們都擴大出口管制，限制先進設備對華出口。

結果，日本政府積極配合，迅速修改相關法規，出臺了比美方更嚴格的管制政策，直接限制包括光刻機在內的23種半導體設備，重點是DUV光刻機全部限制對華出口。

然而，荷蘭政府就選擇了一種更靈活的方式來應對，先是遲遲不發布出口管制政策，給ASML留出更多出貨時間，后來即使開始實施管制，但僅限制了先進浸潤式DUV。

按荷蘭政府的出口管制規則，ASML有兩種較舊版本的浸潤式DUV能繼續對華出口。

即使2024年荷蘭出口管制開始生效，ASML又申請到了4個月出口豁免，能夠繼續向大陸出貨先進光刻機，即使2024年9月實行逐案審核，ASML依然能繼續出貨。

正是在荷蘭政府和ASML的努力下，ASML在2024年向大陸市場出貨了盡可能多的光刻機，這從ASML營收就能看出，2024年后三季度大陸營收占比都在49%左右。

2025年1月，荷蘭政府又宣布不對外展示，ASML對華出口“雙重用途”出口數據。

可以說，荷蘭政府一直在努力減少出口管制對ASML造成的影響，并且用非常靈活的操作，既能維持和美方盟友以及我方的關系，還能最大程度減少對ASML的影響。

而日本政府卻嚴格執行美方的限制要求，嚴格控制尼康對華出口浸潤式光刻機，以及佳能的NIL納米壓印光刻機，導致他們錯過爭奪市場的絕佳機會，再次拉開了差距！

對此，連日媒都直接表示，我們終究失算了，全盤服從美方限制，讓日企失去了機會！