俄羅斯自研350納米光刻機

國芯網[原:中國半導體論壇] 振興國產半導體產業！

不拘中國、放眼世界！關注世界半導體論壇↓↓↓

3月18日消息，據俄羅斯國家工業信息系統最新目錄顯示，由澤列諾格勒納米技術中心自主研發的新型光刻系統已正式納入國家工業設備名錄。

這臺型號為RAVC.442174.002TU的設備，標志著俄羅斯在構建獨立半導體制造生態系統、打破西方技術封鎖上，邁出了從“實驗室研發”到“工業化部署”的實質性一步。

此次入列的光刻系統是一款對準和投影曝光裝置，其核心指標為350納米（0.35微米）分辨率。雖然這一制程節點與當前全球最先進的3納米或5納米工藝相比顯得“古老”，但在半導體產業的宏大版圖中，它絕非無用之物。

光刻技術作為芯片制造的“心臟”，負責將電路圖案精準投射到硅晶圓上。該設備采用365納米波長的i線紫外光源，可處理直徑達200毫米的標準晶圓，對準精度控制在90納米左右。這些參數表明，該系統完全具備量產工業級芯片的能力，能夠廣泛應用于電源管理、汽車電子、航空航天控制及各類嵌入式系統。

據悉，該設備項目于2021年啟動，由俄羅斯工業和貿易部資助，是ZNTC與白俄羅斯知名半導體設備制造商Planar深度合作的成果。

面對西方國家日益嚴苛的出口管制，尤其是ASML、尼康等巨頭對俄禁運高端光刻設備，俄羅斯選擇了一條務實的“進口替代”路線。

GISP目錄的收錄不僅僅是一個行政程序，更是一張通往國內市場的“通行證”。根據俄羅斯的國家戰略，政府機構及國有企業在采購設備時將優先考慮名錄內的國產產品。這意味著，這臺350納米光刻機將迅速進入俄羅斯國內的晶圓廠，用于維持和擴大成熟制程芯片的產能，確保能源、交通、國防等關鍵領域的供應鏈安全。

業界分析指出，盡管350納米工藝無法制造智能手機處理器或高性能GPU，但現代工業體系對這類“成熟制程”芯片的需求量巨大且穩定。電動汽車的功率器件、工業機器人的控制芯片、甚至導彈制導系統中的抗輻射元件，往往不需要極致的微縮化，而更看重可靠性、耐久性和供應的穩定性。俄羅斯此舉正是抓住了這一痛點，試圖在無法觸及尖端邏輯芯片的情況下，先守住工業電子的底線，避免關鍵基礎設施因“缺芯”而停擺。

ZNTC方面透露，在350納米設備成功量產的基礎上，下一代研發目標已鎖定在130納米節點。若能攻克這一技術關口，俄羅斯國產芯片的適用范圍將進一步擴大，覆蓋更多復雜的通信和計算需求。

半導體論壇百萬微信群

第一步：掃描下方二維碼，關注國芯網微信公眾號。

文章內容整理自網絡，如有侵權請聯系溝通